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双盘压力研磨抛光机

沈阳科晶自动化设备有限公司

企业性质生产商

入驻年限第10年

营业执照已审核
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UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域,广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光,以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位,可以分别进行研磨、抛光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压,压力施加于载物盘的中心,使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制,上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转,下盘作顺时针旋转,通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小,具有研磨定时功能,时间到机器自动停止,可以实现无人看守工作。1、设有两个研磨抛光工位,可分别进行研磨、抛光操作。
2、中心加载压力,压力稳定可靠。
3、性能优良,操作简单,适用范围广。

产品名称
UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机
产品型号
UNIPOL-1000D
安装条件
本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:无
4、工作台:尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:不需要
主要参数
1、电源:220V 50Hz
2、载物盘:Ø150mm
3、桃型孔:Ø25.4mm
4、磨抛盘:Ø250mm
5、载物盘(上盘)转速:10rpm-80rpm(无级调速)
6、磨抛盘(下盘)转速:50rpm-400rpm(增量调速,最小增量10)
7、压力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg)
产品规格

尺寸:780mm×590mm×750mm;

重量:100kg

序号 名称 数量 图片链接
1 铸铝抛光盘 2个
2 桃型孔载物盘
1个

3 磁力片 4片
4 研抛底片 6片
5 砂纸(240#、400#、800#、1500#) 各2片
6

抛光垫

(磨砂革、合成革、聚氨酯)

各2片
7 金刚石抛光膏 1支

序号
名称
功能类别
图片链接
1 平载物盘
(可选)

2
修盘环
(可选)

3
SKZD-2滴料器
(可选)

4
SKZD-3滴料器
(可选)

5 SKZD-4自动滴料器
(可选)

6 SKZD-5滴料器
(可选)

7 YJXZ-12搅拌循环泵
(可选)

8 精密测厚仪
(可选)

9 GPC-50A精确磨抛控制仪
(可选)

10 陶瓷研磨盘
(可选)

11 玻璃研磨盘
(可选)

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