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原位激光过程气体分析仪

四方光电(武汉)仪器有限公司

企业性质生产商

入驻年限第10年

营业执照已审核
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原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100

GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器,采用对射式设计,可用于工业过程气体控制;其响应时间快速,在原位式测量中一般以秒计算,避免采样式测量带来的时间延迟,可在线及时的反应被测气体浓度。


原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性

采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰

原位安装,无需采样预处理系统

响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度

实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高

在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性

隔爆防爆设计,安全系数高

构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护


原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性

性能参数
测量组份H2S、O2、CO、CO2、CH4*
测量原理TDLAS
测试范围

H2S:0 ~ 100ppm,0 ~ 5000ppm

O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%)

CO:(0 ~ 100)%VOL
CO2:(0 ~ 100)%VOL
CH4:(0 ~ 20)%VOL
精度≤±1%F.S.
重复性≤±1%
量程漂移≤±1%F.S.
分辨率0.01%VOL
响应时间T90≤1s
工作参数
防爆等级Ex d IIC T6 Gb
安装方式原位安装
环境温度(-20~ +60)℃
工作电源24V DC,24W
吹扫气体(0.3~ 0.8)MPa工业氮气
接口信号
通讯RS485、RS232
输出模式2路4-20mA输出
3路继电器输出



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