磁控溅射系统NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000

磁控溅射系统：

NSC-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展

NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的DC溅射，介质材料的RF溅射，以及脉冲DC溅射等应用。

NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射

NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射

特点：

** 优化的14”立方电抛光不锈钢腔体10”圆柱形不锈钢腔体
** 可以支持大尺寸基片或者批处理（腔体和靶枪均升级）
** 涡轮分子泵组可达到5×10-7Torr的极限真空
** 根据不同的靶尺寸可配套单个或多个靶枪
** 可支持序列溅射或共溅射
** 靶基距可调节
** 1”-6”平面磁控管可选
** 溅射源和基板挡板
** 带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC
** 带手动挡板的3英寸观察视窗
** 晶振膜厚监控仪
** 基片旋转功能
** 全自动计算机控制，菜单驱动
** LabVIEW友好用户界面
** EMO和安全互锁

选配：

** 基板支持加热(最 高可达800°C)或冷却
** 支持旋转GLAD斜角入射沉积
** 腔体尺寸可定制
** 1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料
** 倾斜磁控枪
** 射频偏压样品台
** 离子源用于基片预清洗
** 离子辅助溅射
** 增加RF电源和DC电源用于共溅射
** 增加热蒸发源和电子束蒸发源
** 形成梯度的组合溅射
** 对基片无轰击的等离子辅助反应溅射涂覆
** 增加MFC用于反应溅射
** 单片自动上下片，以及Cassette-to-Cassette自动上下片
** 大尺寸基片溅射以及批处理溅射
** 其它包含冷泵等的各种真空泵选配

应用：

** 光学涂覆和ITO涂覆
** 硬涂层
** 保护涂层
** 微电子图案
** 形成梯度的组合溅射
** 对基片无轰击的等离子辅助反应溅射涂覆
** OLED应用中的TCO透明导电薄膜