PFEIFFER VACUUM - 高效粒子监测

高效粒子监测

亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为0.1μm的最小粒子，也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的ADPC 302可测量芯片传送载体内的粒子数量（前开式晶圆传送盒FOUP，前开式装运箱FOSB）。全自动的专 利工艺从载体表面（包括门）对粒子进行定位和计数。

得益于领先的晶圆，该系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化、清洗策略优化和清洗质量检查。

与传统湿法相比较（液体颗粒计数器），ADPC的干式工艺（干式粒子计数器）显示出了明显的优势。干式工艺的主要优势在于粒子测量是完全自动的。它是在生产过程中集成的，因此不再需要生产周期之外的时间。有了全自动测量，该过程无需额外的操作员。测试时间只需7分钟，意味着ADPC 302的速度是传统系统的4倍。可在1个小时内测试8个运输箱。

APA 302

在洁净室环境下，APA 302是用于先进芯片制造的独特在线监测工具。这台革新性设备可以测量FOUP和周围环境中的空气分子污染物（简称AMC）。该测量实时发生，在ppbv范围内具有很高的灵敏度。

有效的污染监测

水分和空气分子污染物（AMC），例如，氟化氢（HF），于等待时间内，在FOUP槽对槽的空间里被释放出来。而这些元素会在图样晶圆上生成晶体生长，从而导致产量的损失和性能的退化。普发真空的APA 302通过FOUP过滤器来对AMC进行采样。在ppb的范围内，通过离子迁移光谱仪、火焰离子化检测、荧光紫外线或光腔衰荡光谱技术，测量在2分钟内发生，具有高灵敏度。而当负载端口上没有FOUP时，APA 302会监控周围的洁净室环境。

FOUP环境的可靠分析

为了保证性能，SEMI S2/S8兼容的APA 302配备了自动校准功能，它会在定期的时间间隔内被激活。对于在APA中对AMC的监控，可在有晶圆或无晶圆的POD中执行。FOUP可以手动传送，也可通过2个负载端口上的悬挂式起重运输（OHT）来传送。因此，可优化各工艺步骤间的等待时间，污染的增加量能立刻被察觉到，且产量增加。

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