企业性质生产商
入驻年限第5年
※ 广泛应用于微电子、半导体、材料等领域；一般应用在溅 射清洗 /表面准备、表面科学、MBE 、高真空溅射过程 中。
※ 典型应用是氩离子溅射清洗表面。
※ 离子束辅助沉积。
※ 离子束溅射清洗。
※ 反应离子刻蚀。
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