EVG紫外纳米压印机 HERCULES NIL

SmartNIL紫外纳米压印：HERCULES NIL

一、设备原理：

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的最新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径最 大为300 mm的晶片。

这是第 一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供最 大的自由度来配置他们的系统，以最 好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的互换功能。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在大面积NIL设备解决方案中的领导地位。 

二、应用范围

HERCULES NIL纳米压印技术主要应用于如下方面：

1. 增强/虚拟现实（AR / VR）光学器件，

2. 3D传感器，

3. 纳米光子学

4. 等离子体光学

5. 纳米压印光栅；

三、主要特点及技术参数

1、主要特点：

u 最 大产量高达40wafers每小时；

u “一站式服务”：将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。

u 市场上最  先进的纳米压印功能，

u 具有较低的力和保形压印，

u 快速的高功率曝光和平滑的压模分离。

u 支持各种设备和应用程序的生产，全自动UV-NIL压印和微力剥离

u 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）

u 200毫米/ 300毫米桥接工具能力

u 全区域覆盖

u 批量生产最 小40 nm或更小的结构

u 支持各种结构尺寸和形状，包括3D

u 适用于高形貌（粗糙）表面

u 分辨率取决于过程和模板

u 优化工艺链

u 具有软工作模板制造能力，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印模板制造设备

u 该设备可以配置微型环境，以确保最 低的缺陷率和最 高质量的原版复制。

2、技术参数

u 最 多300毫米的基材

u 晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米（7200压印模块）/ 200至300毫米（7300压印模块）

u 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

u 支持流程：SmartNIL®

u 最 大产量高达40wafe/小时

u 对准：≤±3微米

u 自动分离：支持

u 前处理：提供所有预处理模块

u 迷你环境和气候控制：可选

u 工作印章制作：支持的

• 模板尺寸：最 大330*330mm

• 最 大压印面积：最 大300*300mm

• 印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模

• 曝光：曝光光源：高功率LED（i线）窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）

• 对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um

• 压印微结构尺寸范围：40nm-2um；

• 压印结构分辨率：≤40纳米

• 压印残留层厚度：≤20纳米

• 滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节

• 图形保型度：≥90%

• 支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°

• 最 多可配置8个模块：清洗模块，抗蚀剂涂层模块，烘烤预处理模块，EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）

• 上下料机械手

• 内部各模块间传递系统

• 上料系统：4料盒自动上料

• SECS/GEM II: 可选。

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