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EVG紫外纳米压印机 HERCULES NIL

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业性质生产商

入驻年限第6年

营业执照已审核
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SmartNIL紫外纳米压印:HERCULES NIL




一、设备原理:

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统,是EVG的NIL产品组合的最新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台,在单个平台上将清洗模块,抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印(NIL)模块结合在一起,用于直径最 大为300 mm的晶片。

这是第 一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供最 大的自由度来配置他们的系统,以最 好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的互换功能。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在大面积NIL设备解决方案中的领导地位。 


二、应用范围

HERCULES NIL纳米压印技术主要应用于如下方面:

  1. 增强/虚拟现实(AR / VR)光学器件,

  2. 3D传感器,

  3. 纳米光子学

  4. 等离子体光学

  5. 纳米压印光栅;


三、主要特点及技术参数

1、主要特点:

u 最 大产量高达40wafers每小时;

u “一站式服务”:将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。

u 市场上最  先进的纳米压印功能,

u 具有较低的力和保形压印,

u 快速的高功率曝光和平滑的压模分离。

u 支持各种设备和应用程序的生产,全自动UV-NIL压印和微力剥离

u 完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

u 200毫米/ 300毫米桥接工具能力

u 全区域覆盖

u 批量生产最 小40 nm或更小的结构

u 支持各种结构尺寸和形状,包括3D

u 适用于高形貌(粗糙)表面

u 分辨率取决于过程和模板

u 优化工艺链

u 具有软工作模板制造能力,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印模板制造设备

u 该设备可以配置微型环境,以确保最 低的缺陷率和最 高质量的原版复制。


2、技术参数

u 最 多300毫米的基材

u 晶圆直径(基板尺寸)100至200毫米(7200压印模块)/ 200至300毫米(7300压印模块)

u 解析度≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

u 支持流程:SmartNIL®

u 最 大产量高达40wafe/小时

u 对准:≤±3微米

u 自动分离:支持

u 前处理:提供所有预处理模块

u 迷你环境和气候控制:可选

u 工作印章制作:支持的

  • 模板尺寸:最 大330*330mm

  • 最 大压印面积:最 大300*300mm

  • 印章制备:支持工作模具制备,支持自动楔形脱模

  • 曝光:曝光光源:高功率LED(i线)窄带曝光;波长:300-500nm, 光强:~ 400 mW/cm2,光强均匀性:20%(6寸)

  • 对准模块:机械对位精度±200um,光学对位精度±3um

  • 压印微结构尺寸范围:40nm-2um;

  • 压印结构分辨率:≤40纳米

  • 压印残留层厚度:≤20纳米

  • 滚压印速度:2mm/s-16mm/s, 可以调节

  • 图形保型度:≥90%

  • 支持倾斜光栅压印,倾斜度45-90°

  • 最 多可配置8个模块:清洗模块,抗蚀剂涂层模块,烘烤预处理模块,EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印(NIL)

  • 上下料机械手

  • 内部各模块间传递系统

  • 上料系统:4料盒自动上料

  • SECS/GEM II: 可选。



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