AZ 光刻胶

AZ 系列光刻胶

AZ 1500 系 列 光 刻 胶，为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶

前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机

显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗 ：去离子水30秒

后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)

剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

特 征

1) 高感光度,高产出率

2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进

3) 广泛应用于半导体行业

产品型号(PRODUCT RANGE)