气液两相混合搅拌
早期研究认为气液分散液是通过搅拌器直接切割成小气泡。然而,最近的研究表明气液分散是由空化控制的。当气速过高或搅拌速度过低时,整个搅拌器被气穴包裹,气体通过搅拌器直接上升到液面引起气驱。
在很多过程中,气液接触非常重要。气体需要与液体充分有效地接触,以提供足够的传质或传热能力。例如,一些氯化和磺化反应是快速反应,需要搅拌器提供高传质强度;有些反应需要吸收难以溶解的氧气,这反过来又需要搅拌器来提供高分散能力。
气液接触过程主要包括以下几种:气液相所需的停留时间分布、允许压降、相对质量流量、是否逆流接触、局部混合能力,是否补充或去除热量,腐蚀条件,泡沫行为和相分离,反应过程中所需的流动模式,以及反应和传质之间的关系。层流和过渡区的流变行为等。这些因素大多与搅拌器密切相关。
搅拌槽内的气体分散大致有以下几种状态: 气驱状态(大部分气体没有分散,气泡沿搅拌直接上升到液面轴),载气状态(气体基本分散,分布在分配器下方**),完全分散状态。
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2007-07-23