奥林巴斯显微镜冷冻断裂装置技术

奥林巴斯显微镜-冷冻断裂装置技术的应用

奥林巴斯显微镜的断裂是在特殊的冷冻断裂仪中进行的。出售的冻裂器械有很多种，其复杂程度也大不相同，但原理是一样的，都是由真空喷涂仪和冻裂装置组成。现以本室日立HHS-5GB冻裂仪为例说明其原理。

奥林巴斯显微镜的冷冻断裂装置。主要有两个部件：刀架和样品架，两者均由导热性良好的铜制成。刀架上装有刀片，刀片可沿样品架上的导轨沿斜面滑下。样品杯可以放置在样品架上。当拉动塑料支撑块时，刀架向下滑动，切断样品。刀架顶部和前部有一个孔，用于喷铂和碳。样品架可以配备一个蚀刻加热器来加热样品。刀架前面还有一个隔热罩，可以阻挡喷涂时的热辐射。为确保整个装置具有良好的导热、滑动和切割性能，每次使用前应仔细擦拭，去除其上的油、水和氧化层。如有必要，使用抛光膏和丙酮清洁表面。

使用奥林巴斯显微镜时，将刀架和样品架放入液氮中冷冻至停止沸腾后取出，在室温下将冷冻样品与样品杯一起快速装入。当样品架死机时，将刀架放在样品架导轨上，在其下方用塑料支撑块，将船插入隔热板，然后用液氮再次冷却整个装置。当停止沸腾时，立即将其取出，放在真空电镀仪的喷涂台上，套上支撑块的拉绳，打开温控器，盖上真空盖开始抽真空。

当奥林巴斯显微镜真空喷雾器内的真空度达到样品温度时，通过快门手柄快速拉动真空罩内的支撑块，刀架会从样品架的斜面滑下，切断样品.将表面有裂纹的样品留在样品杯中。

有时奥林巴斯显微镜需要研究腹面的结构，这就需要样品慢慢升温，使冰升华，膜的内外表面都暴露出来。这个过程称为侵蚀。蚀刻速度与温度和真空度有关。具体方法是在样品破碎后，用蚀刻加热器将样品温度缓慢升高至真空度，并在此条件下保持3-10分钟。

奥林巴斯显微镜的断裂或蚀刻样品需要喷涂。溅射的目的是在暴露的样品表面产生具有足够对比度和三维效果的连续薄膜，并打印样品表面的复制品。

奥林巴斯显微镜喷涂分两步进行。先用样品做 45。 A方向通过喷孔喷出。为此，应将带有键珠的碳棒在真空度下预热，然后加大电流使铂在2-3秒内熔化气化。当碳花刚出现时，通电终止。步骤：该步骤为喷碳，喷射方向垂直于样品表面。喷炭时间为每次1秒，共可喷4-5次。每个间隔为 3-4 秒。间歇喷碳的目的是防止样品因过热而被腐蚀。喷碳的目的是在样品表面形成一层连续的薄膜。铂和碳喷涂的方向。

上述奥林巴斯显微镜冷冻超薄切片制备方法适用于形态学、细胞化学或免疫标记研究。在制备过程中，样品必须通过一系列水溶性介质，可称为湿法。潮湿会导致样品中可溶性成分的损失，因此不能用于这些成分的研究。为了研究细胞中可扩散的水溶性成分，应使用该方法制备超薄切片。