辉光放电光谱仪的特点

表面技术随着工业技术的发展已经在工业生产的各个领域得到了非常广泛的应用。从客观上而言，相应的表面检测手段也需越来越高的要求，尤其是多层工艺为表面加工过程所采用或者在深度方向成分有浓度梯度存在时，就好对检测工作有比较大的麻烦。在生产实践中，许多企业仅可以按照经验估计或者理论计算来控制生产。如果要对生产或科研有较好的理论指导,就必须逐层分析表面。辉光放电光谱仪就可以将这一问题比较wan美地进行解决。

特点

狭窄的谱线宽度

在辉光放电光源内的等离子体中，氩气具有较低的温度，并且光源内保持一定的低压,使得洛仑兹效应与多普勒效应减小了。使得和其他光谱仪相比，其拥有更加狭窄的谱线宽度，也就拥有更少的狭窄谱线间叠加干扰现象。

较小的自吸收效应

在輝光放电光谱中，样品激发时的等离子体厚度由于光源的设计变薄，也就产生较小的自吸收效，所以可以获得的校准曲线的线性范围较宽。

较小的基体效应

在辉光放电光源中，样品表面原子首先被溅射出来进而被激发的。对于组成和结构均有所差异的样品，尽管溅射率不一样，然而对元素的激发过程所产生的效应不是太明显。所以能够通过对各标准样品或纯物质的溅射率进行计算，校正 测得的强度，能够在同一条校准曲线上制作组成和结构有所差异的样品中的同一元素。定量深度剖面分析的理论依据也是如此。

低能级激发

样品表面的原子遭受高能氩离子的轰击以后被溅射出来往等离子体进入，主要受到电子碰撞而被激发。因为电子电子所带的能量较小，使原子处于低能级的激发所产生的谱线通常为简单的原子谱线,，所以谱线间具有比较小的干扰。