纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究

研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用通过等离子化学气相沉积法（PECVD），制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H)，利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征，通过实验发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式，PECVD工艺参数如衬底温度直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响