解决方案

ALD原子层沉积技术应用

v2-31e0162f161e9d6c07d5b74e224f91cb_720w.jpg

ALD设备:ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。


ALD设备应用:


相关仪器
您可能感兴趣的解决方案