紫外臭氧清洗法介绍

紫外臭氧清洗方法是一种基于原子光学级别的深度清洗，可以完全清洗汗印手印分解附着在衬底和基片上的有机物，并杀灭细菌病毒的新方法在国内外生物物理半导体等专业实验室获得了广泛的应用 紫外臭氧清洗仪