QCM-D研究光刻蚀分解

光响应高分子（光刻胶）材料被广泛的应用于工业处理，如电子器件和刻蚀他们对光敏感，并且大量使用在表面上本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究 Q-Sensezhuo越版四通道石英晶体微天平 Q-Sense扩展版单通道石英晶体微天平 Q-Sense全自动八通道石英晶体微天平