扫描电镜在纳米测量中的成象误差

本文从扫描电镜二次电子像成像原理出发，分析用扫描电镜测量纳米尺度时可能出现的成像误差ZD分析了成份边界的成像误差，并提出了减小成份边界成像误差的方法分析了台阶的成像误差也提出了减小台阶成像误差的方法同时提请纳米测量者注意渐变边界的成像误差在讨论中提出：在纳米测量中，应尽量避免用边界作为测量的标记点或标记线；纳米标准器具，更应避免用边界作为标记点或标记线；**用成份细线的ZX点或ZX线作为标记点或标记线；其次是用小颗粒的ZX点，细刻线的ZX线作为标记点或标记线为研究纳米标准器具提出了技术方向 蔡司SIGMA 500高分辨率场发射扫描电镜 蔡司SIGMA 300场发射扫描电镜 钨灯丝系列扫描电镜 EVO MA 10/LS 10 钨灯丝系列扫描电镜 EVO MA 15/LS 15 蔡司（ZEISS） EVO 18钨灯丝系列扫描电镜