Zeta电位法监控氮化硅表面二氧化硅氧化层的去除

在空气中保存并且接触水溶液后，PH值滴定实验
测得氮化硅片的等电点（IEP）为PH4与氧化硅
片相比，IEP移向了更高的PH值然而，如果用
5%的HF酸处理几秒钟，IEP变为5.3，这说明HF
有效出去了氮化硅表面的自生氧化层如果在HF
处理之前先用Piranha 溶液处理一下，氧化物层
将会被处理的更彻底 安东帕SurPASS固体表面分析仪/固体电位运动分析仪/固体表面ZETA电位测量仪