电感耦合等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质

随着集成电路的迅速发展，集成度越来越高，半导体芯片的生产对原材料的质量提出了更高的要求在集成电路的制作工艺中常常会用到各种不同种类的气体，气体中不可避免的含有少量的金属杂质，这些杂质会很容易被其它介质吸收，一旦吸收，就会增加芯片表面的金属离子浓度，严重的影响器件的性能和成品率[1]六十年代初，对气体中金属元素的分析采用分离法和比色法来测定[2]，六十年代未，由于人们对环境大气污染的广泛重视，许多实验室都采用了准确度好灵敏度高操作简单的原子吸收法来测定随着科学技术（如等离子体技术和CCD技术）的发展和分析领域的不断需求，在仪器分析中，既能满足生产需要，又无化学干扰和物理干扰，操作方便，分析速度快，选择性强，灵敏度高，准确度好，而且又能快速同时分析样品中的金属元素，大都采用等离子发射光谱法

采用等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质，至今未见有文献报导本文就是采用等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质，通过反复实验，摸索实验条件，我们建立了等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质的方法，本方法操作简单，准确可靠，可以满足于对气体中的痕量金属杂质的测定